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    熱水循環(huán)系統(tǒng)-反應釜循環(huán)水加熱器

    簡要描述:【無錫冠亞】熱水循環(huán)系統(tǒng)-反應釜循環(huán)水加熱器,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    • 產(chǎn)品型號:SUNDI-555
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時間:2025-05-22
    • 訪  問  量:79
    詳情介紹
    品牌冠亞恒溫價格區(qū)間10萬-20萬
    產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合

    熱水循環(huán)系統(tǒng)-反應釜循環(huán)水加熱器


    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質(zhì)溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統(tǒng)

    前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設(shè)備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協(xié)議

    MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設(shè)備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

    導熱介質(zhì)溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統(tǒng)

    整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風)cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規(guī)重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


    熱水循環(huán)系統(tǒng)-反應釜循環(huán)水加熱器

    熱水循環(huán)系統(tǒng)-反應釜循環(huán)水加熱器

     

      高低溫循環(huán)一體機是一種集制冷與加熱功能于一體的溫控設(shè)備,通過全封閉管道設(shè)計和板式熱交換器,實現(xiàn)快速升降溫和溫度控制。

      一、高低溫循環(huán)一體機工作原理

      高低溫循環(huán)一體機的核心工作原理基于制冷劑循環(huán)系統(tǒng)。制冷時,制冷劑在蒸發(fā)器中吸熱汽化,經(jīng)壓縮機壓縮為高溫高壓氣體后,通過冷凝器散熱液化;加熱時,通過電加熱模塊或熱泵技術(shù)提升溫度。設(shè)備內(nèi)部通常包含壓縮機、冷凝器、蒸發(fā)器、膨脹閥和智能控制系統(tǒng),支持寬溫度范圍的連續(xù)調(diào)控。

      該設(shè)備采用密閉循環(huán)系統(tǒng),導熱介質(zhì)在膨脹容器中與循環(huán)回路隔離,可以減少氧化和水分吸收,延長介質(zhì)使用時間。同時,通過復疊式制冷技術(shù)實現(xiàn)超低溫需求,滿足科研與工業(yè)的嚴苛溫控要求。

      二、高低溫循環(huán)一體機應用行業(yè)

      高低溫循環(huán)一體機憑借其寬溫域和高精度特性,廣泛應用于多個領(lǐng)域。

      1、制藥與生物醫(yī)藥:制藥合成反應中維持恒溫環(huán)境,提升產(chǎn)物純度與收率;產(chǎn)品結(jié)晶與純化工藝中,梯度降溫優(yōu)化晶型結(jié)構(gòu)。

      2、化工與石化:控制反應釜溫度以優(yōu)化化學反應效率;精餾提純工藝中應對沸點漂移,實現(xiàn)動態(tài)溫補。

      3、電子與半導體:芯片制造過程中的熱測試與封裝冷卻;元器件高低溫循環(huán)試驗,驗證苛刻環(huán)境下的可靠性。

      4、新能源與汽車:動力電池包溫度測試,模擬高溫與低溫工況;燃料電池冷卻系統(tǒng)性能驗證。

      5、科研與實驗室:材料性能測試,如金屬疲勞、復合材料熱穩(wěn)定性;凍干機、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等設(shè)備的配套冷熱源。

      三、高低溫循環(huán)一體機典型配套場景

      1、反應釜集成:與玻璃/金屬反應釜聯(lián)動,通過夾套循環(huán)介質(zhì)實現(xiàn)化學反應動態(tài)控溫,提升反應效率。

      2、真空蒸餾系統(tǒng):在減壓蒸餾中,結(jié)合冷阱技術(shù)捕集揮發(fā)性組分,防止產(chǎn)物污染。

      3、半導體制造線:為化學氣相沉積設(shè)備提供穩(wěn)定冷源,確保沉積膜均勻性。

      四、高低溫循環(huán)一體機使用注意事項

      1、環(huán)境與安裝:設(shè)備需置于通風良好、避免暴曬的環(huán)境,預留散熱空間。

      2、介質(zhì)選擇與管理:使用規(guī)定的導熱油類型;定期檢測介質(zhì)清潔度,防止管路堵塞。

      3、操作規(guī)范:啟動前檢查循環(huán)壓力,避免干燒或超壓;停機時按流程操作,防止壓縮機液擊。

      4、維護保養(yǎng):定期清理冷凝器翅片,按照使用周期更換潤滑油并檢測密封性;定期校準溫度傳感器與壓力表。

    高低溫循環(huán)一體機作為現(xiàn)代工業(yè)與科研的溫控核心設(shè)備之一,其選型與應用需緊密結(jié)合工藝需求與技術(shù)參數(shù)。通過科學配置與規(guī)范操作,可提升生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量,助力企業(yè)實現(xiàn)智能化轉(zhuǎn)型。



    熱水循環(huán)系統(tǒng)-反應釜循環(huán)水加熱器



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