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    反應釜pid溫度控制 防爆高低溫恒溫循環裝置

    簡要描述:【無錫冠亞】反應釜pid溫度控制 防爆高低溫恒溫循環裝置,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產品型號:SUNDI-625W
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-17
    • 訪  問  量:687
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷價格區間20萬-50萬
    產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

    反應釜pid溫度控制 防爆高低溫恒溫循環裝置


    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統

    前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協議

    MODBUS RTU 協議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

    導熱介質溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環系統

    整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風)cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


     

     

     

     

      半導體生產過程是一個復雜且精細的工藝過程,其中溫度控制是影響產品質量和性能的關鍵因素之一。接下來,冠亞制冷為您介紹半導體生產過程測試環節溫度控制裝置的使用注意事項,以確保生產過程的穩定性和產品質量的可靠性。

      一、半導體生產過程測試環節溫度控制裝置的選擇與安裝

      在選擇溫度控制裝置時,應根據半導體生產過程的實際需求進行選型??紤]測試環節的溫度范圍、精度要求、響應時間等因素,確保所選裝置能夠滿足生產過程的溫度控制需求。同時,注意選擇具有良好穩定性和可靠性的溫度控制裝置,以保證生產過程的順利進行。

      在安裝半導體生產過程測試環節溫度控制裝置時,應遵循相關規范,確保裝置安裝穩固、連接可靠。對于需要接入電源的溫度控制裝置,應使用符合要求的電源插座,并確保電源電壓穩定,避免對裝置造成損壞。此外,安裝位置的選擇也很重要,應確保裝置遠離熱源、震動源和腐蝕性氣體,以保證其正常運行和延長使用壽命。

      二、半導體生產過程測試環節溫度控制裝置的操作與維護

      在操作半導體生產過程測試環節溫度控制裝置時,應遵循設備的操作指南,按照規定的步驟進行操作。在測試前,應對裝置進行預熱和校準,以確保其準確性。在測試過程中,應密切關注溫度控制裝置的運行狀態,如發現異常情況應及時處理。同時,應避免在裝置周圍放置雜物,以免影響其正常運行。

      對于半導體生產過程測試環節溫度控制裝置的維護,應定期進行清潔和檢查。清潔時,應使用干燥的軟布擦拭裝置表面,避免使用腐蝕性清潔劑。檢查時,應關注裝置的連接是否緊固、傳感器是否損壞等。如發現異常情況,應及時聯系專業人員進行維修或更換。

      三、半導體生產過程測試環節溫度控制裝置的安全使用

      在使用半導體生產過程測試環節溫度控制裝置時,應注意安全事項。應避免在高溫環境下長時間操作裝置,以免燙傷或引發火災等事故。其次,對于需要接觸高溫部分的操作,應佩戴防護手套和防護眼鏡等個人防護裝備,確保操作安全。

      四、半導體生產過程測試環節溫度控制裝置的記錄與監控

      為確保半導體生產過程的質量追溯和數據分析,應對溫度控制裝置的使用情況進行記錄和監控。記錄內容包括但不限于測試時間、溫度范圍、溫度波動等關鍵參數。

    總之,半導體生產過程測試環節溫度控制裝置的使用注意事項涵蓋多個方面。只有遵循這些注意事項,才能確保溫度控制裝置在半導體生產過程中發揮作用,提高產品質量和生產效率。




      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

    TTTT反應釜pid溫度控制 防爆高低溫恒溫循環裝置

    反應釜pid溫度控制 防爆高低溫恒溫循環裝置


    反應釜pid溫度控制 防爆高低溫恒溫循環裝置



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