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    單一媒介控溫TCU智能溫控系統 雙通道水冷機

    簡要描述:【無錫冠亞】單一媒介控溫TCU智能溫控系統 雙通道水冷機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產品型號:SUNDI-275
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-16
    • 訪  問  量:1551
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷價格區間10萬-20萬
    產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

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    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統

    前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協議

    MODBUS RTU 協議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

    導熱介質溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環系統

    整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風)cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


     

     

     

      隨著信息技術的飛速發展,數據中心已成為現代社會中的基礎設施。然而,隨著數據中心的規模不斷擴大,傳統的風冷散熱方式已難以滿足大規模數據中心的散熱需求,因此,液冷系統作為一種散熱技術,逐漸受到業界的關注和應用。

      一、液冷系統的基本原理與優勢

      液冷系統,即使用液體作為冷卻介質來降低數據中心設備溫度的系統。與傳統的風冷散熱相比,液冷系統具有更高的熱傳導效率。這是因為液體在傳導熱量時,其熱阻遠低于空氣,因此能夠更加有效地將設備產生的熱量傳導至散熱器或外部環境。

      二、液冷系統的應用場景

      1、大規模數據中心:隨著云計算、大數據等技術的廣泛應用,數據中心的規模不斷擴大,對散熱效率的要求也越來越高。液冷系統能夠滿足大規模數據中心的散熱需求,確保設備穩定運行。

      2、高性能計算領域:高性能計算(HPC)領域對設備的散熱性能要求高。液冷系統能夠提供穩定的散熱環境,確保高性能計算設備的性能得到充分發揮。

      三、液冷系統的挑戰與展望

      盡管液冷系統在數據中心領域具有廣闊的應用前景,但仍面臨一些挑戰。例如,液冷系統的設計和維護成本較高,對運行環境的要求也較為嚴格。此外,液冷系統的安全性問題也需要得到重視。

    未來,隨著技術的不斷進步和成本的降低,液冷系統有望在更多領域得到應用。同時,行業也需要加強液冷系統的研發和創新,提高系統的穩定性和安全性,推動液冷技術在數據中心領域的廣泛應用。 




      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

    單一媒介控溫TCU智能溫控系統 雙通道水冷機

    單一媒介控溫TCU智能溫控系統 雙通道水冷機


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