制冷加熱循環(huán)裝置性能-30℃～180℃

無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于：

高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制

　　制藥化工反應(yīng)釜冷熱循環(huán)機(jī)是適用于制藥、化工、實(shí)驗(yàn)室行業(yè)中連接反應(yīng)釜進(jìn)行制冷、加熱反應(yīng)的設(shè)備，主要功能應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制。

　　1、制藥化工反應(yīng)釜冷熱循環(huán)機(jī)溫度范圍寬，性能*高精度、智能型溫度控制，會(huì)根據(jù)用戶的需求進(jìn)行溫度選型以及溫度設(shè)定，在規(guī)定的時(shí)間范圍內(nèi)，回達(dá)到設(shè)定的溫度。

　　2、在過程控制過程中，根據(jù)反應(yīng)釜內(nèi)物料所需的溫度、防爆、尺寸，根據(jù)客戶現(xiàn)場(chǎng)的不同特點(diǎn)和要求設(shè)計(jì)控制系統(tǒng)，以滿足導(dǎo)熱冷卻和加熱控制所需的溫度。

　　3、所需的額定工況是水溫高、散熱差會(huì)導(dǎo)致冷凝壓力高，這種情況在高溫季節(jié)經(jīng)常發(fā)生。水溫高的原因可能是:冷卻塔故障，如風(fēng)扇不開甚至反轉(zhuǎn)，布水器不轉(zhuǎn)，說明冷卻水溫度很高，上升很快；外部溫度高，水路短，可回收的水量少。這種情況下，冷卻水溫度一般維持在較高水平，可以通過增加儲(chǔ)水罐來解決。

　　4、冷卻水流量不足，達(dá)不到額定水流量：主要表現(xiàn)為機(jī)組進(jìn)出水壓差變小(與系統(tǒng)運(yùn)行初期壓差相比)，溫差變大。水流不足的原因是系統(tǒng)缺水或空氣不足，解決辦法是在管道高度安裝排氣閥進(jìn)行排氣；如果過濾器堵塞或太薄，透水性就會(huì)受到限制。應(yīng)選擇合適的過濾器，并定期清潔濾網(wǎng)。水泵很小，與系統(tǒng)不匹配。

　　5、冷凝水若采用自來水，容易結(jié)垢。而且，由于冷卻塔是開放式的，直接暴露在空氣中，灰塵和異物很容易進(jìn)入冷卻水系統(tǒng)，導(dǎo)致冷凝器臟污堵塞，換熱面積小，效率低，也影響了水流。其表現(xiàn)為機(jī)組進(jìn)出水壓差和溫差變大，手摸冷凝器上下溫度很高，冷凝器出口銅管發(fā)熱。機(jī)組應(yīng)定期反沖洗，必要時(shí)應(yīng)進(jìn)行化學(xué)清洗和除垢。

制冷加熱循環(huán)裝置性能-30℃～180℃

制冷加熱循環(huán)裝置性能-30℃～180℃