【無錫冠亞】半導體晶圓冷卻裝置 硅片循環水冷卻機 ，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環節的溫度精準控制，40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環系統采用全密閉設計、循環泵采用磁力驅動泵，經過24小時連續運行拷機。

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【無錫冠亞】反應裝置低溫循環設備 數據中心chiller ，冠亞制冷設備制冷溫度范圍從-150度到-5度，可滿足不同制冷溫度需求。產品廣泛應用于化工、制藥、生化、新能源、元器件等行業低溫反應領域，制冷速度快，安全可靠。

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