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在半導體制造領域，溫度控制的精度和穩定性對芯片性能以及生產良率有著直接影響。然而，傳統溫控設備存在能耗較高、精度相對不足以及穩定性欠佳等問題，這些問題已然成為制約半導體材料有效生產的關鍵因素。
一、半導體行業行業挑戰
一方面，控溫精度不足，在低溫工況下易出現溫度回升現象，可能導致光刻膠形變或研磨液性能波動，進而影響工藝一致性；
另一方面，效率低下，能耗較高，且由于控溫精度不足，可能導致原料浪費與生產成本增加。這些問題已然成為制約半導體材料有效生產的關鍵因素。
冠亞恒溫聚焦半導體行業的控溫需求，憑借其高精度的溫控解決方案以及創新技術優勢，幫助企業達成更有效、更穩定的生產目標。
二、半導體行業控溫解決方案
半導體溫控設備Chiller適用于集成電路、半導體顯示等行業，溫控設備可在工藝制程中準確控制反應腔室溫度，是一種用于半導體制造過程中對設備或工藝進行冷卻的裝置，其工作原理是利用制冷循環和熱交換原理，通過控制循環液的溫度、流量和壓力，帶走半導體工藝設備產生的熱量，從而實現準確的溫度控制，確保半導體制造過程的穩定性和產品質量。
三、半導體溫控Chiller核心產品
FLTZ變頻單通道Chiller
?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等
?溫度范圍：-100℃~+90℃，控溫精度±0.05℃
?技術亮點：變頻泵可調整循環液壓?、流量；智能變頻節能控制，降低使用能耗；?持?標定制，?持PC遠程控制
FLTZ系列雙通道Chiller
?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等
?控溫范圍：-45℃~+90℃，控溫精度：±0.1℃
?技術亮點：系統支持雙通道獨立控制溫度、流量壓力；采用變頻控溫技術，可根據客戶需求定制產品
FLTZ變頻三通道Chiller
?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等
?控溫范圍：-20℃～+100℃，控溫精度：±0.1℃
?技術亮點：三通道整合，支持每個通道獨立控溫范圍、導熱介質流量；深化性能開發，匹配刻蝕工藝需求
面板Chiller
?介紹應用：應?于刻蝕、蒸鍍、鍍膜?藝等
?控溫范圍：+15~+30℃，控溫精度±0.05℃
?技術亮點：高揚程設計?持?流量?負載，確保嚴苛?況下持續穩定運?；智能變頻節能控制，減少?效能耗；符合三通道?藝設計要求，確保信號/流體的獨?傳輸與準確控制
ETCU換熱控溫單元
?介紹應用：應用于PVD、CVD、PECVD、ALD?藝等
?冷卻?溫度范圍：+5℃~+90℃，控溫精度±0.05℃
?技術亮點：系統?壓縮機，通過換熱降溫；?持?標定制，?持PC遠程控制
四、為什么選擇冠亞恒溫？
1、深耕半導體領域：服務半導體后道生產流程工藝中，覆蓋半導體FAB工藝過程控溫、半導體封測工藝過程控溫。
2、定制化服務能力：依托模塊化平臺，提供標準化與個性化結合的解決方案。
五、冠亞恒溫半導體溫控Chiller溫控系統技術優勢
1、變頻技術與節能：采用變頻技術，結合精心設計的系統結構和自主開發的控制算法，能夠準確調節壓縮機的輸出頻率。在滿足制程需求的前提下，降低能耗，為企業節省運營成本。
2、全密閉式系統：采用全密閉設計，有效杜絕油霧和異味產生，延長導熱液體的使用壽命。
3、快速加熱與制冷：參與循環的導熱液體量少，使得加熱和制冷速度大幅提升。響應速度快，能夠及時適應工藝過程中的溫度調整需求。
4、模塊化設計：系統結構緊湊，占地面積小，安裝和移動都十分便捷。這種設計使得設備能夠靈活適應不同的生產場地和工藝布局，為企業節省空間和安裝成本。
5、智能監控與診斷：可同時監控、設定和控制流量、泵壓、溫度等參數，實時顯示運行狀態。設備具備故障自動診斷功能，并擁有多項報警保護功能，能夠提前預警潛在問題，保障生產的連續性和穩定性。
6、控制重復性與穩定性：基于動態控制系統，確保每次控制結果的一致性，有效提升生產穩定性。
7、自適應PID控制：采用自適應PID算法，能夠自動適應不同的環境和負載條件，無需人工調整參數，這大大降低了操作難度和維護成本，提高了設備的智能化水平。
溫度控制是半導體制造過程中一項重要的工藝環節。冠亞恒溫半導體溫控Chiller憑借技術創新作為發展動力，通過提供準確、穩定且有效的溫控系統，協助企業優化生產流程，降低資源消耗，推動企業實現高質量的制造生產。
