實驗室制冷加熱循環(huán)設備壓力控制與哪些因素有關？

　　用戶在使用實驗室制冷加熱循環(huán)設備的過程中受系統壓力控制會導致選型結果，那么，如何將實驗室制冷加熱循環(huán)設備的壓力控制在額定區(qū)間范圍內呢？實驗室制冷加熱循環(huán)設備的壓力與哪些因素有關呢？

　　1、在實驗室制冷加熱循環(huán)設備的出口增加減壓閥，這樣可以更準確的控制，像化工反應釜控溫對溫度要求比較準確，升降溫速率有要求，而且壓力的話可以自動調節(jié)，

　　2、將實驗室制冷加熱循環(huán)設備的旁通變大，內部自循環(huán)的口徑做大一點，這樣也可以減小壓力，然后旁通上可加球閥，手動調節(jié)壓力大小；

　　3、因為壓力跟循環(huán)泵的揚程有關系，揚程和壓力成正比的關系，可以在確保流量足夠的情況選擇揚程小一點的泵，這樣壓力也可以控制的小一點；

　　4、在對于循環(huán)泵的選型上還可以選擇變頻泵并在輸出管路上增加壓力調節(jié)器。

實驗室制冷加熱循環(huán)設備是制藥化工行業(yè)中常用的流體控溫的主流設備，滿足生產流程中設定的工藝溫度以及各種控溫的要求。